- Минпромторг выделил 5,7 млрд рублей на создание российского литографического оборудования для техпроцессов с нормами 65-130 нм. Разработкой займётся «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ).
- ЗНТЦ выиграл конкурс на «разработку отечественной установки для печати микросхем на кремниевых пластинах в соответствии с технологическими процессами 130-65 нм». Других участников в конкурсе не было.
- По условиям тендера фотолитографическая машина должна состоять из оптического устройства, включая систему загрузки фотошаблонов, камеры с высокой точностью стабилизации температуры и ПО. Срок выполнения работ — до ноября 2026 г.
- ЗНТЦ обещает, что ключевым компонентом оборудования станет отечественный лазер.
- Техпроцессы 65-130 нм востребованы на рынке. По ним делают чипы для автомобильной электроники, устройств интернета вещей, кассового оборудования. На зеленоградском «Микроне» существует 65-нм производство, но оно работает на импортном оборудовании.
- Первые чипы, выпущенные по 65-нм техпроцессу, появились в 2004 году. В 2005 году технологию освоила TSMC, в 2006 — Intel.
- В настоящее время в России оборудование для фотолитографии не выпускается. Минпромторг планирует создать и поддерживать такое производство. Долгосрочный план предполагает освоение техпроцессов 28, 20 и 14 нм к 2030 году.
|
